淄(zi)博言赫特氣(qi)(qi)有限公(gong)司的電子級(ji)(VLSI)氯化氫產(chan)(chan)(chan)品生產(chan)(chan)(chan)裝置(zhi)于(yu)2003年(nian)投產(chan)(chan)(chan)，經北京市科委鑒(jian)定(ding)，主要用于(yu)半導體器件生產(chan)(chan)(chan)中單晶硅片的氣(qi)(qi)相拋光、外延基座(zuo)腐蝕及硬(ying)質(zhi)合金制造。

    電子及氯化氫在我們生活的各個領域中具有廣泛的應用前景，它不僅是電子工業中制造大規模集成電路所需的重要材料之一，而且應用于醫藥、化工、半導體行業，因此需求量越來越大。 
    目前已(yi)有研究人在研究制(zhi)(zhi)(zhi)備過程中成(cheng)(cheng)(cheng)功合(he)(he)成(cheng)(cheng)(cheng)了(le)電子(zi)(zi)級(ji)(ji)氯(lv)(lv)化氫，同(tong)時從(cong)這些(xie)合(he)(he)成(cheng)(cheng)(cheng)方法中發現解(jie)析(xi)法和(he)鹽酸脫析(xi)法制(zhi)(zhi)(zhi)備氯(lv)(lv)化氫工(gong)藝(yi)簡單可大(da)規(gui)模生(sheng)產，但(dan)是(shi)(shi)制(zhi)(zhi)(zhi)備的氯(lv)(lv)化氫純度(du)偏低，越來越不(bu)滿足電子(zi)(zi)工(gong)業，尤其是(shi)(shi)集成(cheng)(cheng)(cheng)電路的要(yao)求。合(he)(he)成(cheng)(cheng)(cheng)法生(sheng)產氯(lv)(lv)化氫的純度(du)偏高(gao)，但(dan)其中水量高(gao)，腐蝕嚴重，對設備要(yao)求高(gao)，生(sheng)產成(cheng)(cheng)(cheng)本(ben)高(gao)。考慮到環保以及工(gong)業副產品回收利用等多(duo)方面(mian)因(yin)素，制(zhi)(zhi)(zhi)備高(gao)純度(du)氯(lv)(lv)化氫的合(he)(he)成(cheng)(cheng)(cheng)是(shi)(shi)必然的發展趨(qu)勢，正如石油(you)化工(gong)副產物氯(lv)(lv)化氫提純法。此提純法無需外加反應(ying)介(jie)質，因(yin)而(er)避免了(le)其它雜質介(jie)質的引入，而(er)且操(cao)作(zuo)簡單，生(sheng)產成(cheng)(cheng)(cheng)本(ben)低，但(dan)是(shi)(shi)在我國(guo)技術還不(bu)太成(cheng)(cheng)(cheng)熟。我國(guo)的電子(zi)(zi)級(ji)(ji)氯(lv)(lv)化氫產品大(da)多(duo)從(cong)美，日等國(guo)進口，價格昂(ang)貴(gui)。因(yin)此我們需要(yao)進一步研究與完(wan)善電子(zi)(zi)級(ji)(ji)氯(lv)(lv)化氫的合(he)(he)成(cheng)(cheng)(cheng)工(gong)藝(yi)，給我國(guo)帶(dai)來一定可觀的社會效(xiao)應(ying)和(he)經濟效(xiao)益。

    我公司5.0N電子級(VLSI)氯化氫產品(pin)經(jing)國內外多家(jia)半(ban)導體(ti)重(zhong)點企業連續大量(liang)(liang)在單晶(jing)硅(gui)片氣(qi)相拋光(guang)和(he)外延基座(zuo)腐蝕(shi)工(gong)藝中廣泛使用，制得(de)的器件產品(pin)質量(liang)(liang)與國際知名品(pin)牌相當(dang)。